同德國(guó)、意大利等歐洲工廠建立總代理合作
在高端光學(xué)材料領(lǐng)域,氟化鋇(Barium Fluoride,BaF₂)以其特殊的光學(xué)性能和化學(xué)穩(wěn)定性成為紫外、可見(jiàn)光及紅外系統(tǒng)的關(guān)鍵材料。Hellma Materials BaF₂ 產(chǎn)品憑借高純度、低吸收、寬光譜透射及高機(jī)械均勻性,廣泛應(yīng)用于激光系統(tǒng)、光學(xué)窗口、閃爍探測(cè)器以及科研儀器等領(lǐng)域。
| 波段范圍 | 透過(guò)性能表現(xiàn) |
| 150–200 nm(深紫外) | 深紫外波段仍有良好透射率,>70% |
| 200–400 nm(UV) | 紫外區(qū)透射率 >90% |
| 400–700 nm(VIS) | 可見(jiàn)光區(qū)透射率 92–94% |
| 1–10 μm(IR) | 紅外區(qū)透射平穩(wěn),高達(dá) 90% |
| 11 μm 以上 | 紅外吸收明顯增加 |
| 參數(shù)類別 | 具體規(guī)格 |
| 晶體直徑 | 最大直徑可達(dá) Ø 100 mm;部分定制型號(hào)可達(dá) Ø 150 mm |
| 厚度范圍 | 1–50 mm |
| 可加工形狀 | 平板、棱鏡、透鏡坯件、柱體等 |
| 表面質(zhì)量 | 20-10 到 60-40 |
| 平整度 | λ/10–λ/4 |
| 密度 | 4.89 g/cm³ |
| 熔點(diǎn) | 1368 °C |
| 熱膨脹系數(shù) | 18.5 ×10⁻⁶ /K |
| 熱導(dǎo)率(25°C) | 2.0 W/mK |
| 楊氏模量 | 57 GPa |
核心應(yīng)用包括激光輸出窗口、透鏡及棱鏡,高功率激光系統(tǒng)中的多波段窗口,以及光學(xué)干涉和成像系統(tǒng)。憑借低吸收、高均勻性的特性,保障激光傳輸效率與成像精度。
適配 DUV 光刻、光學(xué)顯微鏡、紫外分光光度計(jì)、光學(xué)傳感與檢測(cè)設(shè)備等場(chǎng)景,深紫外波段的良好透射性能滿足高端紫外光學(xué)系統(tǒng)的嚴(yán)苛要求。
廣泛應(yīng)用于紅外光學(xué)元件、熱成像鏡頭、氣體傳感器窗口、紅外光譜儀光學(xué)部件等,1–10 μm 波段的平穩(wěn)透射率為紅外探測(cè)技術(shù)提供可靠支撐。
適用于 γ 射線探測(cè)器、核醫(yī)學(xué)成像設(shè)備、安全掃描與輻射監(jiān)測(cè)系統(tǒng)等,獨(dú)特的閃爍特性使其成為輻射探測(cè)領(lǐng)域的關(guān)鍵材料。
| 特點(diǎn)一 | 特點(diǎn)二 | 特點(diǎn)三 | 特點(diǎn)四 | 特點(diǎn)五 |
| 寬光譜透射(DUV-IR) | 高純度低雜質(zhì) | 大尺寸晶體供應(yīng) | 內(nèi)部應(yīng)力控制嚴(yán)格 | 多領(lǐng)域適用性 |
HELLMA 氟化鋇(BaF₂)晶體材料以跨深紫外至紅外的寬波段透射優(yōu)勢(shì),結(jié)合高純度、低吸收、嚴(yán)格的應(yīng)力控制等特性,成為光學(xué)領(lǐng)域的優(yōu)選材料。其覆蓋激光系統(tǒng)、紫外光刻、紅外探測(cè)、輻射監(jiān)測(cè)等多場(chǎng)景的適配能力,搭配大尺寸供應(yīng)與多樣化加工選項(xiàng),滿足工業(yè)生產(chǎn)與科研實(shí)驗(yàn)的雙重需求。穩(wěn)定的化學(xué)性能與機(jī)械均勻性,為各類高精度光學(xué)系統(tǒng)提供可靠支撐,是推動(dòng)光學(xué)技術(shù)升級(jí)的核心基礎(chǔ)材料。